半導体プロセス科学部門

About关于研究室

プラズマを計測して、半導体づくりを科学する。

半導体プロセス科学部門は、低温プラズマ科学研究センターの部門の1つで、半導体デバイスを作るときのプラズマプロセスを、科学的に理解することを研究しています。
センターが持つプラズマ気相・表面診断技術を使い、プロセス中の反応原子・分子の密度、エネルギー、時空間分布を計測します。
その理解をもとに、次世代半導体デバイス・インテグレーションのための、革新的な製造プラズマプロセスを生み出すことを目指しています。

Members教师

半導体プロセス科学部門のメンバーは、教授、特任教授、特任准教授、特任講師、特任助教で構成されています。截至2026年

• 教授石川 健治
• 特任教授唐橋 一浩
• 特任副教授NGUYEN Thi-Thuy-Nga
• 特任讲师馬 緻宇
• 特任助理教授OSONIO Airah Peraro

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