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等离子体电子学研究室
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制造并测量低温等离子体，并将其应用于半导体和材料制备的研究室。
About关于研究室
低温等离子体 × 测量 × 材料工艺
内田・鈴木研究室开展低温等离子体的
通过设计放电、
利用图像测量和建模，
正在推进其在半导体
术语说明
- 低温等离子体
- 含有电子和离子的电离气体中，
气体整体温度较低的一类。 用于半导体加工等 - 溅射成膜
- 使等离子体中的离子撞击材料，
让被撞出的原子堆积在基板上， 从而制成薄膜的方法 - 高深宽比结构
- 与宽度相比，
深度或高度 大得多的细长沟槽、 孔洞等结构
Research研究课题
该研究室通过低温等离子体的生成、
※示意图通过溅射成膜制备纳米结构薄膜
这项研究利用溅射成膜
※示意图用图像立体地观察等离子体
将从多个方向拍摄的图像组合起来重建立体结构，
※示意图细而深的结构中的粒子运动
研究在半导体加工中形成的高深宽比结构内部，
Members教师
- 教授内田 儀一郎
- 副教授鈴木 陽香
Voices学长学姐的评价
评价基于在读
对于接受采访的学生，
学长学姐的评价
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能源控制工学本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图，
- 顶部图片：《Bell Jar 35 with Argon Plasma》 Diener electronic GmbH + Co KG／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- 通过溅射成膜制备纳米结构薄膜：《Princip naprašování》 Vítězslav Lamač／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- 用图像立体地观察等离子体：《Glow discharge regions》 Derived file: Chetvorno Original file: Jannis Andrija Schnitzer／CC BY-SA 2.0（裁剪）
- 细而深的结构中的粒子运动：《Minimal Fab exhibit at Tsukuba Science Square 7》 Syced／CC0（裁剪）
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（等离子体能源工程研究室） ：《TFTR 1989》 Princeton Plasma Physics Laboratory／CC BY 3.0（裁剪） - 相关研究室
（等离子体纳米工艺科学研究组） ：《Plasma Pencil》 Entropi5／CC BY-SA 3.0（裁剪） - 相关研究室
（能源控制工学 （S） 研究小组） ：《Silicon heterojunction solar cell》 Radiotrefoil／CC BY-SA 4.0（裁剪）
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