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等离子体纳米工艺科学研究组
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该研究室致力于利用等离子体开展原子级刻蚀与纳米材料制备。
About关于研究室
利用低温等离子体，在原子尺度上进行加工。
石川研究室研究基于低温等离子体科学的新技术。
对气体放电产生的等离子体，
该研究室观测等离子体中离子和自由基的行为，
该研究室还利用等离子体技术，
术语说明
- 刻蚀
- 通过化学反应等方式削除材料表面，
形成布线用的沟槽或孔洞形状的加工工艺 - 自由基
- 处于易发生反应状态的原子或分子。
在等离子体中产生， 并与材料表面发生反应 - 碳纳米墙
- 板状石墨从基板表面垂直地像墙壁一样排列而成的碳材料
News研究室公告
博士课程的学生获得IPTJC2025 Oral Presentation Competition Award
（第1名） 学生获得VASSCAA-12 Special Award
（Poster Award） 学生获得IUVSTA-Elsevier Student Awards
井上助理教授获得ISPlasma2024 The best oral presentation award
Research研究课题
该研究室研究利用低温等离子体科学的创新技术。
※示意图自主式纳米等离子体装置
开发了一种装置，
※示意图逐个原子层刻蚀
目标是创立将硅等晶体的损伤抑制到极限、
※示意图利用等离子体制备纳米材料
通过等离子体改变氢原子和烃类自由基的量，
Members教师
石川研究室的成员由教师、
- 教授石川 健治
- 教授No Van Non
- 特任教授蕭 世男
- 副教授堤 隆嘉
- 特任副教授Camelia MIRON
- 特任副教授グエン ティ トゥイ ガー
- 特任副教授Nikolay BRITUN
- 特任讲师馬 緻宇
- 特任讲师橋爪 博司
- 助理教授井上 健一
- 特任助理教授呉 哲亞
- 特任助理教授Airah Peraro OSONIO
- 特任助理教授Trung Nguyen TRAN
- 特任助理教授石川 和也
- 特任助理教授Francis Amalraj SUSAI
Voices学长学姐的评价
评价基于在读
对于接受采访的学生，
学长学姐的评价
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等离子体电子学研究室工学部 电气电子信息工学科基于新思路开发等离子体装置并推进其应用领域拓展的研究团队。本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图，
- 顶部图片：《Plasma Pencil》 Entropi5／CC BY-SA 3.0（裁剪）
- 自主式纳米等离子体
装置：《Horne Hybrid Reactor Prototype》 Ron3000001／CC BY-SA 4.0（裁剪） - 逐个原子层刻蚀：《Silicon wafer researcher》 U.S. Department of Energy／公有领域
（裁剪） - 利用等离子体
制备纳米材料：《Carbon Nanomaterials》 Lengmartin／CC BY-SA 3.0（裁剪） - 相关研究室
（纳米生物传感研究组） ：《Atomic force microscope by Zureks》 Zureks／CC BY-SA 3.0（裁剪） - 相关研究室
（生命电子学研究组） ：《Plasma-filaments》 The original uploader was Iantresman at English Wikipedia.／CC BY 2.5（裁剪） - 相关研究室
（功能集成器件研究小组） ：《Wafer - 4》 Windell Oskay／CC BY 2.0（裁剪） - 相关研究室
（等离子体电子学研究室） ：《Bell Jar 35 with Argon Plasma》 Diener electronic GmbH + Co KG／CC BY-SA 4.0（裁剪）
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