機能性無機材料×エキシマレーザー研究室

About研究室について

紫外線レーザーを用いた新しい半導体製造の研究。

薮田研究室は、紫外線レーザーを用いた新しい半導体デバイスの製造プロセスと、酸化物を中心とした新しい半導体材料・誘電体材料を研究しています。
エキシマレーザーという強力な紫外線パルス光の装置を使い、紫外光の照射で半導体材料の特性を変えたり、半導体薄膜を形成したりする製造プロセスの開発に取り組んでいます。
低温プロセスで優れた半導体特性を示す酸化物半導体の物性研究とデバイス開発や、誘電体材料・圧電材料・強誘電体材料の物性研究とデバイス応用開発も行っています。
研究室のサイトでは「薮田研究室」の名前で紹介されています。

Research研究テーマ

薮田研究室は、紫外線レーザーを用いた新しい半導体デバイスの製造プロセスと、酸化物を中心とした新しい半導体材料・誘電体材料を研究しています。これからの社会に役立つ新しい半導体デバイス・材料の開発を進めるなかで、産業に貢献できる人材の育成を目指しています。

※イメージ画像

深紫外レーザーによる半導体製造↗

エキシマレーザーの紫外光照射で、半導体材料の特性を変えたり、デバイスに必要な半導体薄膜を形成したりする製造プロセスを開発しています。レーザー製造企業との共同研究で、リソグラフィーの工程に使われる高性能レーザーを、別の新しいプロセス技術の研究開発に使っています。

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酸化物半導体・誘電体材料の研究↗

低温プロセスで優れた半導体特性を示す酸化物半導体（IGZOなど）の物性研究とデバイス開発を行い、n型とp型の酸化物半導体を同一素子上に用いた相補型酸化物半導体トランジスタなども研究します。ゲート絶縁膜や容量膜に使う誘電体材料、超音波素子などに使う圧電材料・強誘電体材料の物性研究とデバイス応用開発も行います。

Voices先輩の声

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