無機材料×深紫外レーザープロセス研究室

About研究室について

紫外線レーザーで新しい半導体の製造法を探る。

無機材料×深紫外レーザープロセス研究室は、紫外線レーザーを使った新しい半導体デバイスの製造プロセスと、酸化物を中心とした新しい半導体材料・誘電体材料を研究しています。
エキシマレーザーという強力な紫外線のパルス光を材料に当て、半導体の特性を変えたり、薄膜をつくったりするプロセスの開発に取り組んでいます。
酸化物半導体や誘電体など、デバイスに使われる無機材料の物性と、デバイスへの応用も調べています。
研究室のサイトでは「薮田研究室」の名前で紹介されています。

Research研究テーマ

この研究室は、紫外線レーザーを用いた新しい半導体デバイスの製造プロセスと、酸化物を中心とした新しい半導体材料・誘電体材料を研究しています。新しい半導体デバイスと材料の開発を通じて、これからの産業に貢献できる人材の育成も目指しています。

※イメージ画像

深紫外レーザーによる製造プロセス↗

エキシマレーザーの強力な紫外線パルス光を当てて、半導体の特性を望みのものに変えたり、デバイスに必要な半導体薄膜をつくったりする製造プロセスを開発しています。レーザー製造企業との共同研究で、次世代の半導体デバイス製造での利用を念頭に進めています。

酸化物半導体・誘電体材料の研究↗

低温プロセスで優れた半導体特性を示す酸化物半導体（IGZOなど）の物性とデバイスを研究しています。n型とp型の酸化物半導体を同じ素子に使う相補型トランジスタや、ゲート絶縁膜に使う誘電体、圧電材料・強誘電体材料も扱います。

Voices先輩の声

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