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纳米表面界面工学领域
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在原子和分子层面探究半导体表面的研究室

About关于研究室
引领并开拓基于表面科学的“制造”领域
纳米表面界面工学领域
该研究室利用能够观察原子排列的显微镜、
同时还在推进利用新型刻蚀现象创制高性能半导体纳米材料,
该研究室于2023年4月设立,
术语说明
- 刻蚀
- 使用药液或等离子体等削除材料表面,
从而形成形状和结构的加工方法 - 石墨烯
- 碳原子排列成单层、
厚度仅为一个原子层的片状物质 - 碳化硅
- 由硅和碳构成的化合物,
也写作SiC
News研究室公告
硕士课程的学生在精密工学会关西地区定期学术讲演会上获得最佳海报报告奖
硕士课程的学生获得应用物理学会的讲演奖励奖
学生在精密工学会学生会员毕业研究发表讲演会上获得卓越报告奖
硕士课程的学生获得大阪大学工业会奖
硕士课程的学生在PCSI-51上获得Young Scientist Award
Research研究课题
通过在原子・分子层面理解并控制固体的表面和界面,
※示意图Si原子层纳米带的创制
尺寸缩小到纳米量级的物质,
※示意图表面创成工艺的原子级评价
在超洁净环境中精密加工完成的半导体
※示意图纳米碳与刻蚀功能
此前致力于在经超平坦抛光的碳化硅表面结合等离子体处理,
※示意图无需机械作用的深沟槽・深孔加工
该研究室关注利用贵金属的催化作用,
Members教师
纳米表面界面工学领域的成员由教师、
- 教授有馬 健太
- 助理教授稲垣 耕司
Voices学长学姐的评价
评价基于在读
对于接受采访的学生,
学长学姐的评价
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计算物理领域工学部 应用自然科学科要制造更高性能的半导体器件、本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图,
- 顶部图片:《Scanning tunneling microscope-MHS 2237-IMG 3817-white》 Rama/CC BY-SA 3.0 fr(裁剪)
- Si原子层纳米带的创制:《Scanning tunneling microscope (STM) 250 nm by 250 nm image of one-atom-thick silver islands grown on palladium (111) surface》 Ponor/CC BY-SA 4.0(裁剪)
- 表面创成工艺的原子级评价:《Scanning tunneling microscope-MHS 2237-IMG 3817-gradient》 Rama/CC BY-SA 3.0 fr(裁剪)
- 纳米碳与刻蚀功能:《Graphen》 AlexanderAlUS/CC BY-SA 3.0(裁剪)
- 无需机械作用的深沟槽・深孔加工:《Dry etching test strucutres》 Mgerlt/CC BY 4.0(裁剪)
- 相关研究室
(原子制御プロセス領域) :《Scanning tunneling microscope-MHS 2237-IMG 3816》 Rama/CC BY-SA 3.0 fr(裁剪) - 相关研究室
(超精密加工領域) :《Optician Polishing Large CXO Mirror Shell At HDOS (illustrations-mirrorFab-Optician Polishing Large CXO Mirror Shell At HDOS - 1-300)》 NASA/SAO/公有领域 (裁剪) - 相关研究室
(応用電気化学領域) :《Samsung E1200i - Lithium-ion battery AB463446BU-4035》 Raimond Spekking/CC BY-SA 4.0(裁剪) - 相关研究室
(計算物理領域) :《Xanthoconite crystal structure (Engel-Nowacki 1968) polyhedra model free axis》 Ra'ike (Wikipedia)/CC0(裁剪)
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