无机材料×深紫外激光工艺研究室

About关于研究室

利用紫外激光探索新型半导体的制造方法。

无机材料×深紫外激光工艺研究室研究使用紫外激光的新型半导体器件制造工艺，以及以氧化物为中心的新型半导体材料和电介质材料。
该研究室致力于开发这样的工艺：将准分子激光这种强力的紫外脉冲光照射到材料上，从而改变半导体的特性，或制备薄膜。
该研究室还研究氧化物半导体、电介质等器件所用无机材料的物性，以及它们在器件上的应用。
在该研究室的网站上，以“薮田研究室”的名称进行介绍。

Research研究课题

该研究室研究使用紫外激光的新型半导体器件制造工艺，以及以氧化物为中心的新型半导体材料和电介质材料。同时，也以通过新型半导体器件与材料的开发，培养能够为未来产业做出贡献的人才为目标。

※示意图

基于深紫外激光的制造工艺↗

开发这样的制造工艺：照射准分子激光的强力紫外脉冲光，将半导体的特性改变为所需状态，或制备器件所需的半导体薄膜。通过与激光制造企业的合作研究，以应用于下一代半导体器件制造为前提推进。

氧化物半导体・电介质材料的研究↗

研究在低温工艺下即可表现出优异半导体特性的氧化物半导体（如IGZO等）的物性及器件。同时也涉及在同一器件中同时使用n型和p型氧化物半导体的互补型晶体管，以及用作栅极绝缘膜的电介质、压电材料和铁电材料。

Voices学长学姐的评价

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