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新エネルギー材料工学分野
半導体の結晶成長をシミュレーションとAIで探る研究室。

About研究室について
次世代半導体の成長を、仮想空間で再現する。
新エネルギー材料工学分野は、
次世代半導体は
研究室では、
AIで
用語の説明
- 化学気相成長
(CVD) - 加熱した
基板に 原料ガスを 送り、 気相反応や 表面反応で 薄膜を 成長させる 方法。 工業的に 広く 使われる - プロセス・インフォマティクス
- 実験・計測・計算科学の
データを AIで 解析し、 材料づくりの 最適な 条件を 探る 手法 - eXS2-CVD
- CVDプロセスを
まる ごと 仮想 空間に 再現する、 この 研究室が 開発している シミュレーション技術
Research研究テーマ
この
※イメージ画像化学気相成長プロセスの解明
次世代半導体の
※イメージ画像AIで未踏材料を開拓する
材料情報学分野、
Members教員
新エネルギー材料工学分野の
- 教授寒川 義裕
Voices先輩の声
評価・クチコミは、
インタビューに
先輩の
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先輩の
- この
研究室の 推しポイントは? - 入ってみて
分かった ことは? - 雰囲気や
先生の 人柄は? - どんな
学生に おすすめ? - 卒業後の
進路は?
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画像について
トップと
- トップの
画像:「Argonne's Tribology Lab Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition」 Argonne National Laboratory/CC BY-SA 2.0(トリミング) - 化学気相成長プロセスの
解明:「CVD Reaction Chamber - GPN」 NASA/GRC/Martin Brown and Quentin Schwinn OD CVD Reaction Chamber/パブリックドメイン (トリミング) - AIで
未踏材料を 開拓する :「Data flock (digits) by Philipp Schmitt」 Philipp Schmitt/CC BY-SA 4.0(トリミング) - 関連する
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研究室 (エネルギー変換工学分 野) :「Pont-l'Abbé high-voltage substation 14 - Transformer connections」 PtiBzh/CC0(トリミング)
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