プロセス設計工学研究室

About研究室について

材料開発を、計算とデータ科学で。

プロセス設計工学研究室は、省エネやSDGsに役立つ機能性材料の研究開発をしています。
これまでの新材料開発は、成膜温度や原料組成などの条件をトライアル＆エラーで探しており、時間も労力もかかっていました。
実験・計測・計算科学で得たデータをデータ科学（AI）で解析し、試す回数を減らす『プロセス・インフォマティクス』を開拓しています。
対象は窒化物半導体などの次世代半導体で、化学気相成長のプロセスを丸ごと仮想空間に再現するシミュレーション技術（eXS2-CVD）を開発しています。
見据えているのは、高効率の電力変換パワーデバイスや深紫外レーザ、ポスト5G／6G通信の超高周波デバイスです。

Research研究テーマ

省エネやSDGsに資する機能性材料として、次世代のワイドギャップ半導体の研究開発を進めています。結晶成長プロセスをモデル化し、AIで最適な成長条件を探すプロセス・インフォマティクスに取り組んでいます。柱は二つで、化学気相成長プロセスを解明するシミュレータ群の開発・改良と、プロセス・インフォマティクスによる未踏材料の開拓です。

Voices先輩の声

所属していた学生の回答をもとにまとめています。評価・クチコミは学生個人の経験に基づくもので、研究室の公式見解ではありません。

インタビューに協力いただいた学生に、内容にかかわらず謝礼（1,000円分のギフト）をお渡しすることがあります。