Tung研究室

About关于研究室

半導体製造に向けた化学システム工学

Tung研究室は、原子の層でできたごく薄い「二次元材料」を、実際に使える技術にする研究をしています。
エピタキシーという結晶の育て方を深く理解し、材料がどのように基板の上で育つのかを調べて、合成を細かく制御します。
新しいp型の二次元半導体を生み出し、原子の薄さのデバイスで使える材料の選択肢を広げています。
化学工学の考え方で、半導体の材料・界面・製造プロセスを設計するための指針をつくることを目指しています。

Research研究课题

原子の厚さしかない材料を、どう育て、どう電極とつなぎ、どう集積するかを研究しています。材料化学・エピタキシー・界面科学・デバイス工学を組み合わせ、原子の構造から電子の働きまでをつなぐ道筋をつくることを目指しています。

※示意图

ウェハー全体での二次元半導体の成長↗

遷移金属ダイカルコゲナイドを中心に、結晶の向きや厚さをそろえてウェハー全体に育てる方法を開発しています。転写せずにデバイスへ直接組み込む方法も探っています。

※示意图

絶縁膜の上に直接つくるp型材料↗

二次元の電子回路に足りないp型の材料を、単結晶の土台を使わず、アモルファス（非晶質）の絶縁膜の上に直接合成する方法を探っています。

※示意图

電極と界面の設計↗

金属の電極や周りの絶縁体との境目が、電気の流れにどう影響するかを調べています。接触抵抗の低い電極づくりや、界面の化学的な制御に取り組んでいます。

※示意图

3次元集積とAI向けハードウェア↗

薄い材料を縦に積み重ねる3次元集積に向けて、低い温度での成長や、転写のいらない組み立て方を研究しています。

Voices学长学姐的评价

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