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喜多研究室
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省エネルギー社会に向けて、電子デバイスの界面を制御する研究室。
About关于研究室
界面のナノ領域から、デバイスを設計する。
喜多研究室は、
その
対象は、
社会の
术语说明
- 界面
- 異なる
2つの 物質が 接している 境目の 部分 - パワーデバイス
- 電気を
使う機器の 中で、 電圧や 電流を 変換する ための 半導体の 部品 - ゲート絶縁膜
- トランジスタで、
電流の オン・ オフを 決める 電極 （ゲート）と 半導体の 間には さむ、 電気を 通さない 薄い 膜 - 強誘電性
- 電圧を
かけなくても 電気的な 偏り （分極）を 保ち、 電圧で その 向きを 反転できる 性質
News研究室公告
博士課程の
学生が、 電子デバイス界面テクノロジー研究会 講演奨励賞を 受賞 田村助教が、
IWDTF Best Paper Awardを 受賞 博士課程の
学生が、 IWDTF Young Researcher Awardを 受賞
Research研究课题
次世代の
※示意图SiCパワーデバイスの高性能化
SiC
※示意图酸化ガリウムのデバイスの基礎技術
次世代の
※示意图ゲート絶縁膜の界面の物理
異なる
※示意图ナノの厚さの強誘電体薄膜
ナノメートルの
Members教师
喜多研究室の
Voices学长学姐的评价
根据所属学生的回答整理。
对于接受采访的学生，
4级评分中，
推荐给什么样的学生?
这个研究室的推荐点是什么?
进入后才知道的事情是什么?
氛围和老师的性格如何?
毕业后的去向?
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本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图，
- 顶部图片：《SiC wafers 6inch》 FDominec／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- SiCパワーデバイスの
高性能化：《Bulk Silicon Carbide Crystal》 LaMèreVeille／CC BY-SA 4.0（裁剪） - 酸化ガリウムの
デバイスの 基礎技術：《Wafer - 2》 Windell Oskay／CC BY 2.0（裁剪） - ゲート絶縁膜の
界面の 物理：《Silicon chip from a computer laser mouse under a microscope 50х》 Original: Alexander Klepnev Derivative work: IamMM／CC BY-SA 4.0（裁剪） - ナノの
厚さの 強誘電体 薄膜：《Hf-crystal bar》 Alchemist-hp (www.pse-mendelejew.de)／CC BY-SA 3.0 de（裁剪） - 相关研究室
（霜垣研究室） ：《Multicrystalline silicon wafer with thin film iridescence》 Radiotrefoil／CC BY-SA 4.0（裁剪） - 相关研究室
（内田・豊島研究室） ：《Silicon wafer close view》 Le hollandais volant／CC BY 4.0（裁剪） - 相关研究室
（近藤研究室） ：《Perovskite solar cell》 Dennis Schroeder / National Renewable Energy Laboratory／公有领域 （裁剪） - 相关研究室
（長汐研究室） ：《Graphen》 AlexanderAlUS／CC BY-SA 3.0（裁剪）
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