LAB LOG评价网站 LabLog 的页面
喜多研究室
机器翻译 · 查看原文
该研究室面向节能社会，控制电子器件的界面。
About关于研究室
从界面的纳米区域出发，设计器件。
喜多研究室研究电子器件中材料相互接触的界面附近所发生的现象。
研究室的目标是通过控制该区域的结构和性质，
研究对象是高效转换电力的下一代功率器件，
为了实现社会的节能化，
术语说明
- 界面
- 两种不同物质相接触的交界部分
- 功率器件
- 在用电设备中用于转换电压和电流的半导体元件
- 栅极绝缘膜
- 晶体管中，
夹在决定电流通断的电极 （栅极） 与半导体之间的不导电薄膜 - 铁电性
- 即使不施加电压也能保持电偏置
（极化）， 并且可以通 过电压使其方向反转的性质
News研究室公告
查看更多 ↗Research研究课题
该研究室致力于革新下一代电子器件的物质科学，
※示意图SiC功率器件的高性能化
开发减少SiC
※示意图氧化镓器件的基础技术
研究在被寄予厚望的下一代功率器件材料氧化镓
※示意图栅极绝缘膜界面的物理
研究不同氧化物之间的界面上出现的“界面偶极效应”的起源。
※示意图纳米厚度的铁电薄膜
利用原子层沉积法
Members教师
喜多研究室的成员由教师，
Voices学长学姐的评价
根据所属学生的回答整理。
对于接受采访的学生，
4级评分中，
推荐给什么样的学生?
这个研究室的推荐点是什么?
进入后才知道的事情是什么?
氛围和老师的性格如何?
毕业后的去向?
Related与喜多研究室相似的研究室
本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图，
- 顶部图片：《SiC wafers 6inch》 FDominec／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- SiC功率器件的高性能化：《Bulk Silicon Carbide Crystal》 LaMèreVeille／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- 氧化镓器件的基础技术：《Wafer - 2》 Windell Oskay／CC BY 2.0（裁剪）
- 栅极绝缘膜界面的物理：《Silicon chip from a computer laser mouse under a microscope 50х》 Original: Alexander Klepnev Derivative work: IamMM／CC BY-SA 4.0（裁剪）
- 纳米厚度的铁电薄膜：《Hf-crystal bar》 Alchemist-hp (www.pse-mendelejew.de)／CC BY-SA 3.0 de（裁剪）
- 相关研究室
（霜垣研究室） ：《Multicrystalline silicon wafer with thin film iridescence》 Radiotrefoil／CC BY-SA 4.0（裁剪） - 相关研究室
（内田・豊島研究室） ：《Silicon wafer close view》 Le hollandais volant／CC BY 4.0（裁剪） - 相关研究室
（近藤研究室） ：《Perovskite solar cell》 Dennis Schroeder / National Renewable Energy Laboratory／公有领域 （裁剪） - 相关研究室
（长汐研究室） ：《Graphen》 AlexanderAlUS／CC BY-SA 3.0（裁剪）
关于 LabLog
LabLog 是学生专属的研究室评价应用。
本页的研究室基本信息和评分汇总与 LabLog 介绍允许搜索引擎和 AI 引用。