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電子機器工学[日暮・竹内]研究室
異種の材料を低温・常温でつなぐ、接合技術の研究室。

About研究室について
小型高機能な集積デバイスをめざし、異種材料を実装する。
日暮・竹内研究室は、
半導体の
小型・高性能・省エネルギー性に
将来の
用語の説明
- ヘテロジニアス集積
- 異なる
材料や 機能を 持つ部品を、 一つの デバイスに まとめて 組み込む 技術 - 表面活性化接合
- 材料どうしを
常温で つなぐ、 常温接合技術の 一つ - ポリシラザン
- SiO2の
前駆体と して 知られる ポリマー材料。 車体の ガラスコーティングとしても 知られる
News研究室のお知らせ
半導体先端パッケージング・ヘテロ集積化技術の
コンソーシアム 「T-CHIPS」を 設立 日暮教授が
分担執筆した 「半導体デバイスの 接合技術・材料の 開発動向と 信頼性評価」が 出版 博士課程の
学生らの 論文が、 Ceramics International に 掲載 博士課程の
学生が、 エレクトロニクス実装学会の アカデミックプラザ賞を 受賞
Research研究テーマ
異種の
※イメージ画像表面活性化接合によるデバイス実装
接合は
※イメージ画像粗い面を平滑にして常温接合
研磨が
※イメージ画像ポリシラザンを介した常温接合
SiO2の
※イメージ画像Au中空バンプでの低温・低荷重接合
先端が
Members教員
日暮・竹内研究室の
- 教授日暮 栄治
- 准教授竹内 魁
- 助教後藤 慎太郎
Voices先輩の声
評価・クチコミは、
インタビューに
先輩の
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画像:「A semiconductor wafer on a dicing (blue) tape. Few chips (dies) from the wafer have already been picked up (removed) for further manufacturing」 Khpsoi/CC BY-SA 4.0(トリミング) - 表面活性化接合に
よる デバイス実装:「3x3 Quilt Packaging Chip Array」 Jacksontlu/CC BY-SA 4.0(トリミング) - 粗い面を
平滑に して 常温接合:「Multicrystalline silicon wafer with thin film iridescence」 Radiotrefoil/CC BY-SA 4.0(トリミング) - ポリシラザンを
介した 常温接合:「IMaGe 31072R – Silicon Wafer 20120926」 Rob Bulmahn/CC BY 2.0(トリミング) - Au中
空 バンプでの 低温・低荷重接合:「MAC01」 Mister rf/CC BY-SA 4.0(トリミング) - 関連する
研究室 (物理情報回路学分野 (竹内研究室)) :「Hero-64-pixel-array-superconducting-nanowire-single-photon-detector-b」 NASA/JPL-Caltech; Text by Dr. Warren Holmes/パブリックドメイン (トリミング) - 関連する
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