霜垣研究室

About研究室について

薄膜プロセスが次世代を切り開く。

霜垣研究室は、物の表面に薄い膜をつくる「薄膜形成プロセス」を研究しています。
材料の研究は、新しい物質をつくることだけでなく、そのつくり方（プロセス）と深く関わっています。
膜ができるしくみを解析してプロセスの力を引き出し、新しい仕組みを加えてプロセスそのものを高度にします。
半導体の配線や次世代の航空宇宙用材料、切削工具のコーティングなどに取り組んでいます。

Research研究テーマ

複雑な立体構造に機能性の材料を詰めたり、薄い膜でコーティングしたりするプロセスを研究しています。膜ができるしくみを解析する「プロセス設計」と、新しい仕組みを加える「プロセス高度化」で、材料の機能化とデバイスの高性能化を目指しています。

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集積回路の配線を守る薄膜↗

大規模集積回路（ULSI）の銅配線には、銅のしみ出しを防ぐ極薄の膜が必要です。コバルトとタングステンの合金による膜を開発し、その特性を調べています。

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航空宇宙用のSiC複合材料↗

炭化ケイ素（SiC）の繊維をSiCで固めた複合材料をつくります。ガスの原料を繊維のすき間に送って繊維の表面で反応させる方法を、計算と実験の両面から研究しています。

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切削工具の硬いコーティング↗

金属を削る工具の刃に硬いセラミックスをコーティングすると、長持ちして速く削れます。CVDで膜ができるしくみを解明し、膜の細かな構造を制御して性能を高める研究です。

Voices先輩の声

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