喜多研究室

画像について

トップと研究テーマの画像は内容のイメージで、研究室で撮影したものではありません。ウィキメディア・コモンズの画像をトリミングして使っています。CC BY-SA の画像は、トリミング後の画像も元の画像と同じ CC BY-SA（各行の版）で提供します。

• トップの画像：「SiC wafers 6inch」 FDominec／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• SiCパワーデバイスの高性能化：「Bulk Silicon Carbide Crystal」 LaMèreVeille／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• 酸化ガリウムのデバイスの基礎技術：「Wafer - 2」 Windell Oskay／CC BY 2.0（トリミング）
• ゲート絶縁膜の界面の物理：「Silicon chip from a computer laser mouse under a microscope 50х」 Original: Alexander Klepnev Derivative work: IamMM／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• ナノの厚さの強誘電体薄膜：「Hf-crystal bar」 Alchemist-hp (www.pse-mendelejew.de)／CC BY-SA 3.0 de（トリミング）
• 関連する研究室（霜垣研究室）：「Multicrystalline silicon wafer with thin film iridescence」 Radiotrefoil／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• 関連する研究室（内田・豊島研究室）：「Silicon wafer close view」 Le hollandais volant／CC BY 4.0（トリミング）
• 関連する研究室（近藤研究室）：「Perovskite solar cell」 Dennis Schroeder / National Renewable Energy Laboratory／パブリックドメイン（トリミング）
• 関連する研究室（長汐研究室）：「Graphen」 AlexanderAlUS／CC BY-SA 3.0（トリミング）