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片山研究室
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从氧化物薄膜出发,探索下一代电子元件材料的研究室。

About关于研究室
用氧化物薄膜开拓未来的电子技术。
片山研究室利用真空
氧化物薄膜具有压电性、
该研究室不拘泥于现有的材料设计,
该研究室于2026年4月在东京理科大学成立,
术语说明
- 氧化物薄膜
- 将氧化物制成纳米量级厚度的薄膜。
越薄, 在相同电压下所受的电场越强 - 电场
- 电压除以材
料厚度所得的值。 即使电压相同, 材料越薄, 电场越大 - 氟氧化物
- 将氧化物的一部
分替换为氟而得到的物质。 该研究室正在开发在低温下合成其薄膜的技术 - 介电材料
- 施加电压后会在内部积累电荷的材料。
用于电容器等电子元件
News研究室公告
双钙钛矿的研究论文刊登于 Journal of Materials Chemistry C
铁电自支撑膜的研究论文刊登于 ACS Applied Electronic Materials
室温多铁性材料的研究论文刊登于 Journal of Applied Physics
片山 司 副教授到任应用化学科,
研究室成立
Research研究课题
片山研究室通过真
※示意图通过薄膜化激发氧化物的功能
大多数氧化物不导电,
※示意图在真空中制备高品质氧化物薄膜
在真
※示意图氟氧化物与薄膜剥离技术
研究室也致力于开发独特的合成方法,
※示意图探索未知的功能
研究室认为氧化物薄膜中还有大量尚未阐明的功能,
Members教师
片山研究室的成员由教师以及
- 副教授片山 司
Voices学长学姐的评价
评价基于在读
对于接受采访的学生,
学长学姐的评价
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学长学姐的评价会回答这些问题
- 这个研究室的推荐点是什么?
- 进入后才知道的事情是什么?
- 氛围和老师的性格如何?
- 推荐给什么样的学生?
- 毕业后的去向?
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本页信息由LabLog运营团队根据研究室的公开信息和采访整理。
关于图片
顶部和研究课题的图片为示意图,
- 顶部图片:《Gold sputter machine》 Tobias Brenner/CC BY-SA 4.0(裁剪)
- 通过薄膜化激发氧化物的功能:《Copper oxide thin-film interference》 Infinirivative/CC BY 4.0(裁剪)
- 在真
空 中 制备高品质氧化物薄膜:《Radiance》 PhVKK Кирюханцев-Корнеев Филипп Владимирович / Научно-учебный центр СВС / ДНК Наука НИТУ «МИСиС» http://science.misis.ru//CC BY-SA 4.0(裁剪) - 氟氧化物与薄膜剥离技术:《Oxygen tube and Pulsed Laser Deposition system at the background》 Abdullahkepceoglu/CC BY-SA 4.0(裁剪)
- 探索未知的功能:《Carleton Laboratory Machine Shop》 Ab1247/CC BY-SA 4.0(裁剪)
- 相关研究室
(駒場研究室) :《HEDBOX Battery Cell Framing System》 Zoran Komlenski/CC BY 4.0(裁剪) - 相关研究室
(大塚研究室) :《Gold Nanoparticles in Cell Cytosol ( )》 NIH Image Gallery from Bethesda, Maryland, USA/公有领域 (裁剪) - 相关研究室
(川﨑研究室) :《Discoveries from Asteroid Bennu- Media Briefing Graphics (SVS14772 - NASA Chiral Molecules V2)》 NASA's Scientific Visualization Studio - NASA/Nicola Fox, Smithsonian Institution/Timothy McCoy, Natural History Museum, London/Sara Russell, NASA/GSFC/Daniel Glavin, NASA/GSFC/Jason Dworkin, NASA/GSFC/Rani Gran, eMITS/Dan Gallagher, Jacobs-JETS/Scott Eckley, Barrios Technology Ltd/Rachel Barry, ADNET Systems, Inc./Lonnie Shekhtman/公有领域 (裁剪) - 相关研究室
(石川研究室) :《Scanning electron microscope view of iron crystal (S72-55208)》 NASA Johnson Space Center/公有领域 (裁剪)
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