ナノ電子デバイス工学研究グループ

画像について

トップと研究テーマの画像は内容のイメージで、研究室で撮影したものではありません。ウィキメディア・コモンズの画像をトリミングして使っています。CC BY-SA の画像は、トリミング後の画像も元の画像と同じ CC BY-SA（各行の版）で提供します。

• トップの画像：「Silicon wafer with mirror finish」 NASA Glenn Research Center／パブリックドメイン（トリミング）
• IV族混晶半導体の結晶成長：「Molecular-beam epitaxy 412 RIBER system at LAAS-CNRS」 QGravelier／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• トランジスタのゲート絶縁膜と界面：「Filling with hazardous reagents for the atomic layer growth process」 R Ashurov／CC BY 4.0（トリミング）
• 金属と半導体の低抵抗な接合：「ΜA791KC die」 Mister rf／CC BY-SA 4.0（トリミング）
• 熱を電気に変える材料：「Voyager Program - RTG upclose」 NASA/JPL／パブリックドメイン（トリミング）
• 関連する研究室（電子線ナノ物理工学研究グループ）：「Transmission Electron Microscope Kemira」 kallerna／パブリックドメイン（トリミング）
• 関連する研究室（磁性材料工学研究グループ）：「Magnetite crystal structure (Fleet 1986, 633D) polyhedra model crystallographic standard alignmend」 Ra'ike (Wikipedia)／CC0（トリミング）
• 関連する研究室（強相関物質工学研究グループ）：「Vapor Crystal Growth System Furnace」 NASA／パブリックドメイン（トリミング）
• 関連する研究室（光物理工学研究グループ）：「Optoelectronics experiment」 Adelphi Lab Center／CC BY 2.0（トリミング）